ПЛОТНОСТЬ КРИТИЧЕСКОГО ТОКА И СИЛЬНЫЙ ПИННИНГ В ДЛИННОМЕРНЫХ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНЫХ ЛЕНТАХ 2-ГО ПОКОЛЕНИЯ
Вернуться к обычному виду

ПЛОТНОСТЬ КРИТИЧЕСКОГО ТОКА И СИЛЬНЫЙ ПИННИНГ В ДЛИННОМЕРНЫХ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНЫХ ЛЕНТАХ 2-ГО ПОКОЛЕНИЯ


03.06.2024

Докладчик(и):  Дегтяренко Павел Николаевич (ОИВТ РАН)
Дата, время проведения:  Среда, 05 июня, 15:00
Адрес:  семинар пройдет в формате видеоконференции


Подключиться к конференции
https://conf.jiht.ru/rooms/evg-6vm-ap7-r1f/join
Рекомендуется использовать браузер Chrome

Аннотация

В последние годы спрос со стороны различных компаний, разрабатывающих сверхпроводящие магнитные системы для установок термоядерного синтеза, привел к необходимости увеличения производства высокотемпературных сверхпроводящих (ВТСП) лент 2-го поколения более чем в десять раз. Пиннинг вихревой структуры при низких температурах в сильном магнитном поле в ВТСП лентах обусловлен присутствием в матрице YBCO случайно распределенных наночастиц Y2O3. Эпитаксиальные наночастицы  Y2O3 являются полукогерентными по отношению к матрице YBCO и порождают множество точечных дефектов, таких как дислокации несоответствия, нанодеформация и, возможно, локальная кислородная нестехиометрия, которые, как полагают, являются эффективными центрами пиннинга для вихрей Абрикосова. Использование Y2O3 для улучшения пиннинга отличается от существующих подходов в создании лент, в котором традиционно используют способ создания искусственных центров пиннинга (ИЦП) в REBCO на основе BaZrO3 (BZO) [2]. В дополнение к общей сложности подхода, ИЦП также являются сложными наноструктурами, так как имеют тенденцию к самоорганизации в наноколонны, предпочтительно ориентированные вдоль направления c-оси YBCO, что приводит и к изменению анизотропии. В результате, лента с ИЦП представляет собой серьезную проблему в производстве, требующем чрезвычайно строгого контроля процесса и сужения диапазона оптимальных параметров, поскольку даже незначительные отклонения состава и/или условий роста могут привести к резким изменениям наночастиц в ВТСП пленке. Отсутствие дополнительных усложнений в слое ВТСП в виде дополнительных химических соединений и организации центров пиннинга на наноструктурном уровне позволило организовать надежное крупносерийное производство ВТСП-лент на основе YBCO со случайно распределенными наночастицами Y2O3. В докладе представлены примеры исследования свойств реальных производственных характеристик ВТСП лент, с очень высокими характеристиками инженерной плотности тока – более 750 А/мм2 при 20 К в магнитном поле 20 Тл. 

Возврат к списку


ПЛОТНОСТЬ КРИТИЧЕСКОГО ТОКА И СИЛЬНЫЙ ПИННИНГ В ДЛИННОМЕРНЫХ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНЫХ ЛЕНТАХ 2-ГО ПОКОЛЕНИЯ